不想當盤子？ASML最新EUV要價恐破230億 臺積電卻步了

艾司摩爾（ASML）是全球最大晶片微影設備市場的翹楚。(圖:shutterstock/達志)

荷商艾司摩爾（ASML）是半導體設備巨頭，該公司針對1奈米以下製程，計劃在2030年推出Hyper-NA極紫外光機（EUV），韓媒撰文指出，ASML設備成本高昂，可能讓臺積電、三星與英特爾卻步。

根據朝鮮日報報導，ASML昂貴的設備價格，對客戶來說是龐大負擔，ASML一般常規EUV機器每臺約1.81億美元，新一代的high-NA EUV售價倍增至3.62億美元，預期Hyper-NA EUV售價可能超過7.24億美元（摺合約237億臺幣）。

半導體產業相關人士表示，臺積電過去比三星更晚引進EUV設備，臺積電透過利用現有設備升級多圖案化，減輕引進新設備帶來的投資負擔。事實上，臺積電已多次表示下一代EUV設備太貴，該公司業務開發資深副總經理暨副共同營運長張曉強表示，A16先進製程節點並不一定需要EUV。

率先採用high-NA EUV的晶圓廠英特爾，因購買新一代設備造成龐大成本負擔，去年公司代工業務虧損70億美元，今年第1季也面臨創紀錄的營運虧損。

ASML則說，Hyper-NA是未來埃米級（angstrom）製程的必要設備，許多公司將採用Hyper-NA EUV，以降低多重圖形化製程的風險。