另一個時空，光刻機的發展經過了一個漫長的過程，1960 年代的接觸式光刻機、接近式光刻機，到 1970 年代的投影式光刻機，1980 年代的步進式光刻機，到步進式掃描光刻機，到浸入式光刻機和8102年的 EUV 光刻機，設備性能不斷提高，推動集成電路按照摩爾定律往前發展。
曝光光源方面，從 1960 年代初到 1980 年代中期，汞燈已用於光刻，其光譜線分別爲 436nm（g 線）、405nm（h 線）和 365nm（i 線）。然而，隨着半導體行業對更高分辨率（集成度更高和速度更快的芯片）和更高產量（更低成本）的需求，基於汞燈光源的光刻工具已不再能夠滿足半導體業界的高端要求。
1982 年，IBM 的 Kanti Jain 開創性的提出了“excimer laser lithography（準分子激光光刻）”，並進行了演示，現在準分子激光光刻機器（步進和掃描儀）在全球集成電路生產中得到廣泛使用。在在發展的 30 年中，準分子激光光刻技術一直是摩爾定律持續推進的關鍵因素。使得芯片製造中的最小特徵尺寸從 1990 年的 500nm 推進至 2016 年 10nm，再到8102年的臺積電和三星實現量產的 7nm 產品。
這其中，汞燈的436nm（g 線）、405nm（h 線）和 365nm（i 線），準分子激光248nm都指的是光刻機用來光刻的曝光光源。
1971年Intel 公司推出的10微米全球第一款4004微處理器，再到1980年2微米工藝的256Kb DRAM，1984年1微米工藝的1Mb DRAM，再到1991年此時即將問世的0.35微米工藝的64Mb DRAM ……10微米到0.35微米，指的是通過光刻機光刻等工藝，在芯片內部中，晶體管之間或者線最小可以做到的距離。
微米和納米的概念，到底有多寬或者多細，大家可以體會一下：
1毫米（mm）等於1000微米（μm），一微米（mm）等於1000納米（nm）。
而成年男性的頭髮直徑一般在40到80微米之間，女性的頭髮直徑則一般在20微米到40微米之間，小孩子的頭髮則是40微米左右。
也就是說，此時工藝爲1微米的芯片中，晶體管的線寬大概是小孩頭髮直徑的1/40；換而言之，直徑40微米的頭髮橫切之後的面積上，按照1微米的工藝光刻，可以光刻20-30個晶體管！
而光刻工藝越好，工藝製程越小，芯片集成度越高，性能越好，功耗越低。
所以，電子產品不斷追求卓越性能的背後，是芯片的處理能力的不斷上升！而反應到芯片生產廠家和芯片製造設備上，就是對芯片製程工藝的不斷縮小和光刻機等設備光刻特徵尺寸的不斷縮小。
所以，餘子賢一心一想要ASML可以製造出0.8微米工藝製程芯片的PAS5000光刻機，最次也要拿到1.2微米的PAS2300光刻機。甚至不惜，給ASML製造一些緊張氣息，透露PAS5500掃描式步進光刻機的相關信息！
“你怎麼知道我們PAS5500型光刻機即將上世的？”裡託斯·基維先生站了起來，懟着餘子賢的臉，嚴肅的問道！
“裡託斯·基維先生，我們的合作的可能已經消失了……所以，很抱歉，我不可能告訴你原因的！”
“不不……餘先生，一切皆有可能！”
“走吧……”餘子賢直接帶頭站了起來，帶着其他幾個人向外走去！
餘子賢就這樣走出去，雖然更多的是想給ASML一些壓力，讓他們退讓，願意以合理價格出售自己想要的光刻機！就算是1微米的PAS2500出售有困難，但是如果ASML可以無償將1.5微米的PAS2300升級到1.2微米，倒也不是不可以接受。
不過，餘子賢在看到天下的烏鴉一般黑之後，已經做好了最壞的打算。之前，餘子賢本來想着撿PAS2300的便宜，可是如果只是1.5微米的製程，餘子賢還想再看一看，他想讓曹飛他們再重點公關一下佳能，或許以可以接受的價格引進1.2微米的光刻機有可能！
裡託斯·基維一看餘子賢直接到這人走了，也是有點急了，再次大聲喊道：“餘先生，你等一等，我立即向總部申請！”
牽扯到PAS5500光刻機的上市，他不得不慎重。更何況，在他看來，香積電確實是PAS2300光刻機非常合適的買主！
目前，灣島的苔積電和聯華電廠房建設早已經結束，而前兩年的苔積電，代工商業模式不被認可，訂單稀少。經過這兩年的發展，灣島半導體行業才實現起步，開始逐步盈利。剛完成投資的苔積電，在短時間內很難繼續再建設新生產線。
關鍵是隨着PAS5500的上市，上市於85年PAS2300系列光刻機，處於即將被主流市場淘汰的邊緣。
灣島找不到買家，那麼在尼康壟斷的曰本和韓國市場，更不可能找到買家。難道真要運回去？
這些精密儀器，想要完好的運送回去，繞地球大半圈，從灣島到芬蘭，運費都在20萬起步！
而一直放着也不是回事啊，既要給苔積電交場地租用費，還面臨時間的推移和技術發展，這兩臺PAS2300光刻機不斷貶值的危險！
可是想要滿足香積電餘子賢的要求，就需要對PAS2300光刻機進行升級，而且費用不小。一臺50萬美元的升級費用，如果算上人工材料等等費用沒多要多少！
“首席，如果現在不乘機將這兩臺PAs2300賣出去的話，就不是賺多少的問題了，而是要虧損多少的問題！”
站在里斯託·基維裡旁邊的辦事處銷售代表阿萊克西斯·呂蒂（Aleksis·Ryti）忽然提醒道。
“……”從猶豫中擡起頭的里斯託·基維卻再沒有看到餘子賢他們的身影……跑到窗子跟前，看到是已經出了辦公大樓餘子賢他們的背影。
“哎，阿萊克西斯”，先給總部打電話吧，將這裡的情況全部告訴他們，然後做進一步請示……”
“是的，裡託斯首席。”阿萊克西斯低聲說道。
而回到酒店的餘子賢，正在召集大家集思廣益。
“老闆，我的工作沒有做好，具體情況瞭解不到位！”佟若愚站了起來，首先自責並檢討道。
“佟總，您不必自責，這一次的談判失敗並不代表我們最終會失敗，而且這一次，主要原因是我改變主意了。根據目前的技術發展，我們已經1.5微米工藝製程的設備，等我們大半年滿產之後，主流工藝已經接近0.5微米了，會又落後一代。所以我想爭取1微米的工藝，最不行1.2微米的工藝製程要保證！”
餘子賢嘆息了一口氣，又說道：“只是沒想到升級費用要50萬，要價太狠！想買他們1微米PAS2500的光刻機，他們又不賣！”
“不過，等着吧，他們有可能還會上門來找我們的！”餘子賢對於自己最後留下的誘餌有一半把握。
“鹿島叔，結合你在NEC的經驗，你先說說你的看法吧！”之前，鹿島智樹沒怎麼多說話。
在餘子賢看來，鹿島智樹在NEC供職時期，何曾愁過設備的問題，所有的一切都有NEC操心，鹿島智樹他們只負責生產運維就行！
“餘總，其實對於ASML的設備，我不熟悉，以前也未曾使用過。所以我想說的不多。不過我想強調一點的是，設備製造標準的統一性，具體來說就是和目前香積電已經存在的3微米光刻機的協調配合，甚至與曰本其他廠商生產的刻蝕機、離子注入機等設備配合，都要考慮在內！”
鹿島智樹給大家進一步解釋……
香積電的工藝實驗室（研發中心）和廠裡生產線的批量生產的設備雖然屬於同一機種，要將實驗室的工藝導入到生產線，對生產線進行升級，想要得到最終理想的目標工藝結果，比如說1.2微米的工藝製程，就必須不斷的對生產線的設備或者工藝做進一步調整，最後找到一個微妙的合適的某一點，或者無限接近這個點，最終讓所有的設備和工藝處於最佳的狀態，良率大幅度提高，確保在80以上……
如果這個點找不出來，就算是可以調試出1.2微米的製程來，但是良率會上不去……甚至有可能良率爲零的可能！
要知道，即使是同一家生產的同一個規格型號的設備，也是存在這微小的性能和狀態差異，這種差異稱之爲“機差”。
“機差”，是每一個半導體制造設備廠家在生產同一型號的設備時，因不可控因素的存在而導致的設備差異。
隨着半導體設備精密化程度的不斷提高，機差的問題也日益顯著。
正是因爲機差等各種因素影響，一般來說，新建設的生產線試生產時，初始良率幾乎都是零。而將良率儘快提高到接近80%（或者某一目標值），並且長期維持接近80%（或者某一目標值）的成品率的技術，纔是工廠批量生產的最終目標和要求！
“所以，餘總，我建議我們在設備採購的合同上一定要特備要求，各設備廠家在設備安裝調試期間，必須選派技術熟練的技術人員到場指導、或者監督，確保每一臺設備的正確安裝，乃至下一步的設備聯試的順利進行，最大程度的縮短調試周期！然後開始產生效益！哪怕是我們爲此付出額外的設備安裝指導的技術工人費用，都是非常值得的！”
“說的好！”聽到鹿島智樹真知灼見，餘子賢不僅爲自己能夠成功聘請鹿島智樹慶幸！以爲下一步香積電的生產線升級慶幸！
想必，有這位專家監督，香積電的生產線升級改造會少走許多彎路，順利許多！
“鹿島叔，你還有什麼補充的嗎？”
“暫時沒有了！”
“那其他人還有沒有補充的？”
“沒有……”
“沒有！”
……
“那好，我再說兩點：第一，我們暫時將生產線芯片工藝製程確定爲1.2微米級別！我們4英寸晶圓的對應芯片工藝製程最小就是1.2微米！”
第二，程渡，你下來之後趕快聯繫曹飛他們，讓他們再一次接觸佳能，加強公關，爭取讓佳能儘早回覆1.2微米光刻機步進式的出售可能性……並且讓他們加快其他設備廠商的談判，爭取早日供貨，最好在1個月內就能供貨……
如果ASML這邊的PAS2300最終能夠談妥，光刻機設備的供貨可就馬上到位了，其他設備的供貨自然也需要加快！
“第三，佟若愚，下來之後，你馬上通知蔡俊傑，讓實驗室再一次梳理1.2微米工藝流程，並且根據我們香積電的設備以及技術實際，制定嚴密的工藝導入和調試方案！”
“鹿島叔，就辛苦你配合蔡俊傑的實驗室，做好各種方案的審覈等技術工作！”
“好的，餘總！”鹿島智樹欣然答應。
突然，鹿島智樹想到什麼，又接着說道：“餘總，香積電目前3微米工藝對應的淨化廠房和輔助動力設施的建設標準需要提高了……按照1.2微米工藝製程的需要，我建議……”
在鹿島智樹的建議下，最後決定同時升級廠房建設標準！
擴大5000平米淨化廠房以及提高輔助動力設施，建設高標準、高質量的水氣電動力保障，要求純水質量達到20兆歐以上；二氧化氮、氧氣、氫氣等氣體管道全採用高規格不鏽鋼管，並配置高純度的氣體淨化器；供電也採用的是雙路雙電源供電，更換ms級自動切換電源裝置，淨化間潔淨度分區採用1000級和100級，就連光刻間的黃光區也升級改造到10級！
這樣下來，目前1.5微米的生產線所在的淨化廠房以及動力設施達到了國際通用標準水平。
陳樹林的1000萬美元，給了餘子賢提高工藝標準高的底氣。而且這1000萬隻能專款專用，所以，餘子賢其他的想法就沒了，儘快的讓這1000萬美元變成可以生產芯片的生產線，這纔是對他最好應用！
至於剩下的尾款缺口……應該“雪球計劃”應該來得及！
就在餘子賢安排最後的事務時，餘子賢聽到了門外敲門的聲音。
餘子賢住的酒店房間屬於辦公套房，小會議室、會客廳一應俱全。
沒過兩分鐘，出去開門的程渡回來了，對於這些說道：“裡託斯先生來了……”
“哦，沒想到他們這麼快來了……”
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