第593章【新的技術痛點——光刻膠】

蔚藍海岸實驗室,紫星光刻機無塵工作室。

今天一早,羅晟接到消息便來到了這裡,此時在這間兩萬多平米的無塵室,幾十名工程師和羅晟都穿着工作無塵服在裡面,他的手裡正拿着一塊晶圓流片反覆觀察欣賞,這尺寸間的藝術正是紫星光刻機的傑作。

站在他身邊的一位工程師興奮使然的道:“光源的轉換效率達到了一致,也實現了正確的控制,團隊攻克了250瓦光源,客戶可以達到每小時155片晶圓吞吐量,而在實驗室裡,則是可以實現超過300瓦的光源功率,完成最後的測試紫星設備就可以正式出貨了。”

全球幾家頂尖的芯片製造商一直以來都堅持250瓦的光源功率是達成每小時155片晶圓生產量吞吐的必要條件,而ASML與光源技術供貨商Cymer到現在爲止還未能實現這一光源功率目標,這家公司兩年前被ASML收購,但進展有限,這也是ASML在進來發展不順的原因,雖說他們已經提前一步搞出了極紫外光刻機了。

羅晟把手裡的流片交給旁邊的工程師,笑道:“幹得不錯,我們現在可以有底氣說出半導體制造設備最重要的光刻機,我們領先世界了,國內的半導體廠商拿着大把的鈔票去求着ASML購買還得看對方心情這種局面,該結束了。”

在場的人聽到這話也是倍感振奮,在羅晟的話音剛落後,都止不住內心的激動心情而鼓掌,爲國產半導體事業里程碑式的突破而鼓掌,也爲自己的事業爲自己鼓掌。

兩千多個日日夜夜的奮戰,不爲別的,就爲了爭一口氣。

幾萬名工程師、研究員、幾百家廠商配合,集中火力朝着一個點不斷的發起火力衝擊,而羅晟在這兩千多個地球日照循環裡,僅僅在極紫外光刻機設備的研發上就投入超過了1000億美元,是ASML公司在極紫外光刻機研發投入的五倍之多。

但毫無疑問,這一切都是值得的。

被調來負責紫星光刻機項目的總監李淳勝道:“與業界2012年約25瓦的光源相比較而言,250瓦光源意味着十倍的進步。而ASML的工程師在簡報EUV生產經濟學時很無奈的表示:250瓦光源功率永遠都是明年的目標,哈哈。”

國產半導體一直不如外國人,國內相關從業者的信心在很長一段時間是備受打擊的,這一次的突破不但是切切實實的成果突破,也給國產半導體事業的有志之士們莫大的信心。

信念這個東西聽起來有點玄,尤其是從事科技工作,但有時候真的很重要,這是士氣問題。

紫星光刻機成功先於ASML公司的NXE搞定,雖然對方遲早會解決這個問題,並且也不會等太久了,但這在半導體設備領域絕對是里程碑式的事件。

因爲這將打破全球半導體產業鏈的格局,也必將會推動整個行業進入全新的時代。

羅晟看着在場的技術員們,他能看得出每一個人此刻的內心都很難平靜,道:“外面總有人一直說我們技術開發不可能成功,我們的人才不如外國人。確實花了很長的時間,很大的人力、物力和財力的投入,但我們終究還是抵達了終點,走到了外面所有人都認爲不可能走到的地方。”

值得一提的是,除了達成光源功率這一里程碑,還有紫星光刻機工具跌對性能的大幅改善,以及產業界在布建紫星光刻機基礎建設方面的進展也傳來捷報,包括光罩、光罩護膜以及光阻劑等。

隊伍裡出了一些豬隊友,但大部分還是靠譜的。

極紫外光刻技術的突破,意味着摩爾定律的生命再次得到延續,但這不是一家兩家廠商能完成的,對於國產集成電路事業而言,外國人根本不帶你玩最高端的,只給你玩他們玩剩下的。

所以羅晟打造的國產半導體產業鏈,只能自己一點一點的搞起來,光是資金就付出了國外競爭者的五倍之多,還需要整個半導體產業鏈中的材料、設備、知道等各大細分領域齊心協力,就像是團隊遊戲闖關一般解開一道道技術難題,才能順利的朝着目的地前進。

這其中的困難不是三言兩語就能概括的,期間團隊的磨合、與上下游廠商的利益糾紛、技術上的分歧等等都是問題,都要解決。

還有在此過程中像鵬星精密這種騙錢的豬隊友,這纔是羅晟最氣的,騙他的錢無所謂,他有的是錢,但因爲這個事情而耽誤了開發進度纔是最無奈的。

半導體產業與其它行業最大的不同點就是需要各大細分領域一起衝關,你這裡掉個鏈子,其它環節沒問題但爲了等你不得不放下腳步,在此期間只能乾瞪眼,木桶效應在這個領域被放大。

顯然,這對於其它環節廠商來說當然是氣的罵娘。

“淳勝,你通知各技術部門負責人,十分鐘後開個小會。”羅晟交代了一句便離開了紫星光刻機無塵室。

“好的。”李淳勝。

……

不到十分鐘過後,蔚藍海岸實驗室內部的一間休息室裡,李淳勝通知了各大技術部門的負責人全都放下手頭工作來到了這裡。

此刻,二十多人三三兩兩的在休息室裡或坐着、或站着、或靠着牆面等等。

羅晟看着每一個人此刻都是容光煥發,喜上眉梢,畢竟今天的確是值得慶祝的時刻,外界還不知道國產集成電路事業已經取得了里程碑式的突破,但他們這些處在第一線的科研人員都已經知道了。

所有人都迫不及待的想要把這個振奮人心的消息向全國彙報。

“各位,這六年來,我在國產半導體事業上僅財務投入就已經超過了3萬億人民幣,其中僅光刻設備的研發投入就已經超過了6600多個億,這都是‘補課費’啊,也是用愛發電,不惜成本,講道理我已經被掏空了,不會再有第二個3萬億砸進來了。”

羅晟這話引得衆人鬨笑連連,國產集成電路事業這六年來默默蟄伏砥礪前行,自然是整個團隊的功勞,但大家也都知道,能夠取得這種里程碑式的突破,離不開羅晟這個人。

沒有他的魄力之舉,沒有他的資金支持和關鍵技術的支持,以及他強大的凝聚力把整個行業的頂尖人才匯聚在一起,國產集成電路事業想要取得今天的成績是絕對不可能實現的。

要輪最大的貢獻者是誰,肯定是羅晟,對此沒有人不服。

羅晟接道:“所以,透過紫星光刻機正式邁入商用化是要提上日程了,不過在場的人都是搞技術的,商業化有別的團隊會來搞,我們今天還是要談技術問題,極紫外光刻機的突破並不意味着國產集成電路事業高端製造就已經完全自主化咯,不怕告訴各位,我們至今爲止才實現了40%的目標,還有60%的目標仍然有待攻克。”

此話一出算是把衆人從喜悅的氛圍中潑了一盆冷水,冷靜了下來。

是啊,半導體事業之所以難,就難在這裡,前面彷彿有着永遠闖不完的關卡,核心環節依然沒有實現全部國產自主化。

例如芯片的晶圓提純技術,目前國產相關廠商還沒有達到高精尖的地步,這個環節被日本的信越化工所壟斷的,全世界的高端芯片晶圓都用的是信越化工,如果他不給你高純度晶圓,整個行業依然是趴窩的狀態。

換句話說,羅晟這3萬億的投入依然不能實現整個國產高端芯片業的自主化,對方只要卡你個一年半載,錢就可能打水漂了。

還有其他關鍵環節也是。

國產半導體全產業鏈自主化道路,任重道遠。

羅晟沉聲道:“目前業界的消息是,明年擡積電和三星都已經成功將EUV技術導入10納米並開始量產,在高端芯片製造領域,我們現在已經是處於頂尖梯隊了,光源搞定了,但一些技術和材料依然是一個巨大的挑戰,就是進入摩爾定律新的篇章之後,9納米以下的工藝需要降低成本,分辨率更高的極紫外光刻膠技術。”

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光刻膠,這就是下一個技術痛點了。

衆人也都猜到了羅晟要講什麼了,如今的半導體工藝被推展至10納米制程,但是實現特定圖形變得越來越困難,並且多重曝光也帶來了生產成本的上升。

羅晟繼續道:“引入極紫外光刻技術後,其所扮演的角色是最新邏輯工藝的關鍵光刻層,在芯片製造商被引入之前,極紫外是有光刻機、光源、光刻膠和光掩膜組成。”

衆人默默的點頭,之前極紫外光刻技術的臨界多在光源,因爲光源的功率不足會影響芯片的生產效率。

而光源問題解決之後,新的挑戰即是光刻膠技術的限制了。

……

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