三星2025年將量產2奈米制程技術 EUV曝光層大增

三星於2018年首次開始在其7奈米節點製程上開始使用EUV曝光技術，從那時起，隨着轉移到5奈米，再到 3奈米節點，三星在晶片生產過程中的EUV曝光層的數量或EUV技術的步驟數量也在持續成長。

據報導，三星的 2 奈米節點製程已經增加到了20層的EUV曝光層。而三星的 1.4 奈米節點製程則預計將有 30多個EUV曝光層。在此同時，三星也將EUV曝光設備應用於其DRAM生產上。