三井化學將量產光刻薄膜新品 支持阿斯麥新機

《科創板日報》18日訊，日本三井化學日前宣佈，將開始量產半導體最尖端光刻機的零部件產品（保護半導體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產品），計劃在日本山口縣巖國大竹工廠內設置生產線，計劃年產能力爲5000張，生產線預計於2025年12月完工。可支持荷蘭阿斯麥（ASML）將推出的下一代光刻機。