《科技》ASML攜手imec 支援歐洲半導體研究與永續創新

此項合作結合ASML完整的產品組合，尤其是開發高階技術節點，採用包括0.55 NA和0.33 NA極紫外光（EUV）、浸潤式深紫外光（DUV）、YieldStar光學量測設備及HMI單光束與多光束檢測技術。

上述工具未來將安裝在imec最先進的試驗製程，並整合到由歐盟及比利時政府資助的奈米晶片試驗製程，爲全球半導體生態系提供用來研發2奈米以下技術的頂尖基礎設備，研發聚焦領域將包含矽光子、記憶體與先進封裝。

上述研發聚焦研發領域，將在多元化市場爲未來基於半導體的AI應用提供完整的堆疊創新。而雙方此次合作的新領域，包括爲imec研究流程中的創新發想與活動挹注可觀資助，這些創新帶來環境與社會效益。

ASML執行長Christophe Fouquet表示，這項協議顯現ASML和imec長期合作的下一步，顯現爲半導體產業開發解決方案的共同志向，也符合針對未來促使社會受惠的科技和創新進行投資的策略。

imec執行長範登霍夫（Luc Van den hove）表示，期待持續發展與ASML獨特的長期夥伴關係，在未來至少30年爲業界提供最先進的圖形化解決方案，並能拓展並持續精進試驗製程性能，提供整個半導體生態系最頂尖的研發，以應對由AI驅動的技術發展帶來的挑戰。