光刻機(膠)概念5日主力淨流出3.27億元，晶方科技、芯源微居前

7月5日，光刻機(膠)概念上漲0.21%，今日主力資金流出3.27億元，概念股43只上漲，32只下跌。

主力資金淨流出居前的分別爲晶方科技（5585.69萬元）、芯源微（3121.63萬元）、南大光電（2418.64萬元）、張江高科（2156.7萬元）、彤程新材（2154.68萬元）。

本文源自：金融界

作者：主力情報