艾司摩爾：中國曝光機落後20年

大陸加緊馬力發展半導體，晶片製造關鍵設備大廠艾司摩爾此前評價，大陸曝光機與世界頂尖的差距大概有20年之久。雖然當地晶圓代工龍頭中芯國際認爲追趕此差距不需要20年，但也承認很難一下子趕超。

第一財經報導，中芯國際聯席CEO趙海軍24日在論壇上表示，此前艾司摩爾技術長Martin van Der Brink來上海蔘觀時曾表示，雙方的差距大約有20年。

但趙海軍也表示，自己認爲20年的差距並不需要真的花到這麼多時間去追趕，當然想要一下子超越很難，但可以每次一點點遞進。而艾司摩爾之所以厲害，在於別人已經不做這個領域了，但它依然堅持做下去。

同場論壇上，中國工程院院士吳漢明則指出，曝光機涉及10多萬零組件，需要5千多供應商支撐，但多數仍在荷美德日，大陸怎麼參與這項全球技術合作，能掌握住哪些環節的自主可控是重要的關鍵。

吳漢明還表示，目前大陸晶片製程有包括精密圖形、新材料以及良率三大挑戰，自己相信趨緩的摩爾定律讓該領域的追趕者有機會跟上。吳漢明強調，雖然產業有晶片投資是否過熱的質疑，但大陸做晶片的以及相關投資遠不到過熱程度，外界對晶片需求越來越大，大陸在該領域的製造能力還有很大差距。趙海軍也表示，目前大陸狀況，晶片投資過熱並非本質。